影響磁控濺射鍍膜結(jié)果的因素

1、濺射功率的影響，在基體和涂層材料確定的情況下，工藝參數(shù)的選擇對(duì)于涂層生長(zhǎng)速率和涂層質(zhì)量都有很大的影響.其中濺射功率的設(shè)定對(duì)這兩方面都有極大的影響.

2、氣壓的影響,磁控濺射是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,為此需要提高氣體的離化率,使氣體形成等離子體.在保證濺射功率固定的情況下,分析氣壓對(duì)于磁控濺射的影響.

磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)

1、幾乎所有材料都可以通過(guò)磁控濺射沉積，而不論其熔化溫度如何;2、可以根據(jù)基材和涂層的要求縮放光源并將其放置在腔室中的任何位置;3、可以沉積合金和化合物的薄膜，同時(shí)保持與原始材料相似的組成.

磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn)

1、磁控濺射所利用的環(huán)狀磁場(chǎng)迫使二次電子跳欄式地沿著環(huán)狀磁場(chǎng)轉(zhuǎn)圈.相應(yīng)地,環(huán)狀磁場(chǎng)控制的區(qū)域是等離子體密度最高的部位.在磁控濺射時(shí),可以看見濺射氣體——氬氣在這部位發(fā)出強(qiáng)烈的淡藍(lán)色輝光,形成一個(gè)光環(huán).處于光環(huán)下的靶材是被離子轟擊最嚴(yán)重的部位,會(huì)濺射出一條環(huán)狀的溝槽.環(huán)狀磁場(chǎng)是電子運(yùn)動(dòng)的軌道,環(huán)狀的輝光和溝槽將其形象地表現(xiàn)了出來(lái).磁控濺射靶的濺射溝槽一旦穿透靶材,就會(huì)導(dǎo)致整塊靶材報(bào)廢,所以靶材的利用率不高,一般低于40%;2、等離子體不穩(wěn)定;

3、不能實(shí)現(xiàn)強(qiáng)磁性材料的低溫高速濺射,因?yàn)閹缀跛械拇磐ǘ纪ú贿^(guò)磁性靶子,所以在靶面附近不能加外加強(qiáng)磁場(chǎng).

磁控濺射鍍膜的適用范圍

1、建材及民用工業(yè)中

2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用

3、高檔產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用

4、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用

5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用

磁控濺射鍍膜注意事項(xiàng)

1、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標(biāo)準(zhǔn)在單室鍍膜機(jī)門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻、銦、鋁)是對(duì)人體有害的,特別要注意真空室清理過(guò)程中出現(xiàn)的粉塵污染;3、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機(jī)械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4、光污染:離子鍍膜過(guò)程中,氣體電離發(fā)出強(qiáng)光,不宜透過(guò)觀察窗久看.